8 inch siliciumwafel P/N-type (100) 1-100Ω dummy terugwinningssubstraat

Korte beschrijving:

Grote voorraad dubbelzijdig gepolijste wafels, alle wafels met een diameter van 50 tot 400 mm. Als uw specificatie niet beschikbaar is in onze inventaris, hebben we langdurige relaties opgebouwd met veel leveranciers die in staat zijn om op maat gemaakte wafels te vervaardigen die aan elke unieke specificatie voldoen.Dubbelzijdig gepolijste wafers kunnen worden gebruikt voor silicium, glas en andere materialen die veel worden gebruikt in de halfgeleiderindustrie.

Stuur een e-mail naar ons

Product detail

Productlabels

Introductie van wafeltjedoos

De 8-inch siliciumwafel is een veelgebruikt siliciumsubstraatmateriaal en wordt veel gebruikt in het productieproces van geïntegreerde schakelingen.Dergelijke siliciumwafels worden vaak gebruikt om verschillende soorten geïntegreerde schakelingen te maken, waaronder microprocessors, geheugenchips, sensoren en andere elektronische apparaten.8-inch siliciumwafels worden vaak gebruikt om chips van relatief grote afmetingen te maken, met als voordelen een groter oppervlak en de mogelijkheid om meer chips op een enkele siliciumwafel te maken, wat leidt tot een verhoogde productie-efficiëntie.De 8-inch siliciumwafel heeft ook goede mechanische en chemische eigenschappen, wat geschikt is voor grootschalige productie van geïntegreerde schakelingen.

Producteigenschappen

8" P/N type, gepolijste siliciumwafel (25 stuks)

Oriëntatie: 200

Weerstand: 0,1 - 40 ohm•cm (kan variëren van batch tot batch)

Dikte: 725 +/- 20um

Prime/Monitor/Testkwaliteit

MATERIËLE EIGENSCHAPPEN

Parameter	Kenmerkend
Type/Doteringsmiddel	P, boor N, fosfor N, antimoon N, arseen
Oriëntaties	<100>, <111> afsnijdoriëntaties volgens de specificaties van de klant
Zuurstofgehalte	10¹⁹ppmA Aangepaste toleranties volgens klantspecificatie
Koolstofgehalte	< 0,6 ppmA

MECHANISCHE EIGENSCHAPPEN

Parameter	Prime	Monitor/test A	Test
Diameter	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,5 mm
Dikte	725±20 µm (standaard)	725±25 µm (standaard) 450 ± 25 µm 625±25 µm 1000±25 µm 1300±25 µm 1500±25 µm	725±50 µm (standaard)
TTV	< 5 µm	< 10 µm	< 15 µm
Boog	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Wrap	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Randafronding	SEMI-SOA
Markering	Alleen primair SEMI-Flat, SEMI-STD Flats Jeida Flat, Notch

Parameter	Prime	Monitor/test A	Test
Criteria aan de voorkant
Gesteldheid van de oppervlakte	Chemisch Mechanisch Gepolijst	Chemisch Mechanisch Gepolijst	Chemisch Mechanisch Gepolijst
Oppervlakteruwheid	< 2°C	< 2°C	< 2°C
Verontreiniging Deeltjes @ >0,3 µm	= 20	= 20	= 30
Haze, Pits sinaasappelschil	Geen	Geen	Geen
Zag, Marks Strepen	Geen	Geen	Geen
Criteria aan de achterkant
Scheuren, kraaienpootjes, zaagsporen, vlekken	Geen	Geen	Geen
Gesteldheid van de oppervlakte	Bijtend geëtst