8inch siliciumwafer P/N-type (100) 1-100Ω dummy-reclaimsubstraat

Korte beschrijving:

Ruime voorraad dubbelzijdig gepolijste wafers, alle wafers met een diameter van 50 tot 400 mm. Als uw specificatie niet in onze voorraad beschikbaar is, hebben we langdurige relaties opgebouwd met vele leveranciers die wafers op maat kunnen fabriceren die voldoen aan elke unieke specificatie. Dubbelzijdig gepolijste wafers kunnen worden gebruikt voor silicium, glas en andere materialen die veel worden gebruikt in de halfgeleiderindustrie.

Stuur ons een e-mail

Productdetails

Productlabels

Introductie van waferbox

De 8-inch siliciumwafer is een veelgebruikt siliciumsubstraatmateriaal en wordt veel gebruikt in het productieproces van geïntegreerde schakelingen. Dergelijke siliciumwafers worden vaak gebruikt voor de productie van diverse soorten geïntegreerde schakelingen, waaronder microprocessors, geheugenchips, sensoren en andere elektronische apparaten. 8-inch siliciumwafers worden vaak gebruikt voor de productie van relatief grote chips, met voordelen zoals een groter oppervlak en de mogelijkheid om meer chips op één siliciumwafer te maken, wat leidt tot een hogere productie-efficiëntie. De 8-inch siliciumwafer heeft ook goede mechanische en chemische eigenschappen, waardoor hij geschikt is voor grootschalige productie van geïntegreerde schakelingen.

Producteigenschappen

8" P/N-type, gepolijste siliciumwafer (25 stuks)

Oriëntatie: 200

Soortelijke weerstand: 0,1 - 40 ohm•cm (kan per batch verschillen)

Dikte: 725+/-20um

Prime/Monitor/Testcijfer

MATERIAALEIGENSCHAPPEN

Parameter	Kenmerkend
Type/Dopant	P, Boor N, Fosfor N, Antimoon N, Arseen
Oriëntaties	<100>, <111> snijrichtingen volgens specificaties van de klant
Zuurstofgehalte	10¹⁹ppmA Aangepaste toleranties volgens de specificaties van de klant
Koolstofgehalte	< 0,6 ppmA

MECHANISCHE EIGENSCHAPPEN

Parameter	Prime	Monitor/Test A	Test
Diameter	200±0,2 mm	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,5 mm
Dikte	725±20µm (standaard)	725±25µm (standaard) 450±25µm 625±25µm 1000±25µm 1300±25µm 1500±25 µm	725±50µm (standaard)
TTV	< 5 µm	< 10 µm	< 15 µm
Boog	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Wrap	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Randafronding	SEMI-STD
Markering	Primair SEMI-Flat alleen, SEMI-STD Flats Jeida Flat, Notch

Parameter	Prime	Monitor/Test A	Test
Criteria aan de voorzijde
Oppervlakteconditie	Chemisch mechanisch gepolijst	Chemisch mechanisch gepolijst	Chemisch mechanisch gepolijst
Oppervlakteruwheid	< 2 A°	< 2 A°	< 2 A°
Besmetting Deeltjes@ >0,3 µm	= 20	= 20	= 30
Nevel, putten Sinaasappelschil	Geen	Geen	Geen
Zaag, markeringen Strepen	Geen	Geen	Geen
Criteria voor de achterkant
Scheuren, kraaienpootjes, zaagsporen, vlekken	Geen	Geen	Geen
Oppervlakteconditie	Bijtend geëtst