8-inch silicium wafer P/N-type (100) 1-100Ω dummy-recycle substraat

8-inch silicium wafer P/N-type (100) 1-100Ω dummy-reclaimsubstraat Uitgelichte afbeelding

Korte beschrijving:

We hebben een grote voorraad dubbelzijdig gepolijste wafers, alle wafers met een diameter van 50 tot 400 mm. Als uw specificatie niet in onze voorraad beschikbaar is, hebben we langdurige relaties opgebouwd met vele leveranciers die wafers op maat kunnen produceren volgens elke unieke specificatie. Dubbelzijdig gepolijste wafers kunnen worden gebruikt voor silicium, glas en andere materialen die veelvuldig in de halfgeleiderindustrie worden gebruikt.

Stuur ons een e-mail.

Functies

Introductie van de waferdoos

De 8-inch siliciumwafer is een veelgebruikt siliciumsubstraat en wordt op grote schaal toegepast in de productie van geïntegreerde schakelingen. Dergelijke siliciumwafers worden vaak gebruikt voor de vervaardiging van diverse soorten geïntegreerde schakelingen, waaronder microprocessoren, geheugenchips, sensoren en andere elektronische apparaten. 8-inch siliciumwafers worden doorgaans gebruikt voor de productie van relatief grote chips, met als voordelen een groter oppervlak en de mogelijkheid om meer chips op één siliciumwafer te produceren, wat leidt tot een hogere productie-efficiëntie. De 8-inch siliciumwafer heeft bovendien goede mechanische en chemische eigenschappen, waardoor deze geschikt is voor grootschalige productie van geïntegreerde schakelingen.

Productkenmerken

8" P/N-type, gepolijste siliciumwafels (25 stuks)

Oriëntatie: 200

Soortelijke weerstand: 0,1 - 40 ohm•cm (kan per batch variëren)

Dikte: 725+/-20 µm

Prime/Monitor/Test Grade

MATERIAALEIGENSCHAPPEN

Parameter	Kenmerkend
Type/Dopant	P, boor-N, fosfor-N, antimoon-N, arseen
Oriëntaties	<100>, <111> snijoriëntaties volgens klantspecificaties
Zuurstofgehalte	10¹⁹ppmA Aangepaste toleranties volgens klantspecificaties
Koolstofgehalte	< 0,6 ppmA

MECHANISCHE EIGENSCHAPPEN

Parameter	Prime	Monitor/Test A	Test
Diameter	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,5 mm
Dikte	725±20µm (standaard)	725±25µm (standaard) 450±25µm 625±25µm 1000±25µm 1300±25µm 1500±25 µm	725±50µm (standaard)
TTV	< 5 µm	< 10 µm	< 15 µm
Boog	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Wrap	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Randafronding	SEMI-STD
Markering	Primaire SEMI-Flat alleen, SEMI-STD Flats Jeida Flat, Notch

Parameter	Prime	Monitor/Test A	Test
Criteria voor de voorkant
Oppervlakteconditie	Chemisch-mechanisch gepolijst	Chemisch-mechanisch gepolijst	Chemisch-mechanisch gepolijst
Oppervlakteruwheid	< 2 Å	< 2 Å	< 2 Å
Verontreiniging Deeltjes@ >0,3 µm	= 20	= 20	= 30
Nevel, Pits Sinaasappelschil	Geen	Geen	Geen
Zaag, Markeringen Strepen	Geen	Geen	Geen
Criteria voor de achterzijde
Scheuren, kraaienpootjes, zaagsporen, vlekken	Geen	Geen	Geen
Oppervlakteconditie	bijtende etsing