SiC-wafel 4H-N 6H-N HPSI 4H-semi 6H-semi 4H-P 6H-P 3C type 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch
Eigenschappen
4H-N en 6H-N (N-type SiC-wafers)
Sollicitatie:Wordt voornamelijk gebruikt in vermogenselektronica, opto-elektronica en toepassingen met hoge temperaturen.
Diameterbereik:50,8 mm tot 200 mm.
Dikte:350 μm ± 25 μm, met optionele diktes van 500 μm ± 25 μm.
Soortelijke weerstand:N-type 4H/6H-P: ≤ 0,1 Ω·cm (Z-klasse), ≤ 0,3 Ω·cm (P-klasse); N-type 3C-N: ≤ 0,8 mΩ·cm (Z-klasse), ≤ 1 mΩ·cm (P-klasse).
Ruwheid:Ra ≤ 0,2 nm (CMP of MP).
Micropijpdichtheid (MPD):< 1 st/cm².
TTV: ≤ 10 μm voor alle diameters.
Verdraaien: ≤ 30 μm (≤ 45 μm voor 8-inch wafers).
Randuitsluiting:3 mm tot 6 mm, afhankelijk van het type wafer.
Verpakking:Cassette voor meerdere wafers of container voor één wafer.
Andere beschikbare maten: 3 inch, 4 inch, 6 inch, 8 inch
HPSI (hoogzuivere semi-isolerende SiC-wafers)
Sollicitatie:Wordt gebruikt voor apparaten die een hoge weerstand en stabiele prestaties vereisen, zoals RF-apparaten, fotonische toepassingen en sensoren.
Diameterbereik:50,8 mm tot 200 mm.
Dikte:Standaarddikte van 350 μm ± 25 μm met opties voor dikkere wafers tot 500 μm.
Ruwheid:Ra ≤ 0,2 nm.
Micropijpdichtheid (MPD): ≤ 1 st/cm².
Soortelijke weerstand:Hoge weerstand, meestal gebruikt in semi-isolerende toepassingen.
Verdraaien: ≤ 30 μm (voor kleinere afmetingen), ≤ 45 μm voor grotere diameters.
TTV: ≤ 10 μm.
Andere beschikbare maten: 3 inch, 4 inch, 6 inch, 8 inch
4H-P、6H-P&3C SiC-wafer(P-type SiC-wafers)
Sollicitatie:Hoofdzakelijk voor vermogens- en hoogfrequente apparaten.
Diameterbereik:50,8 mm tot 200 mm.
Dikte:350 μm ± 25 μm of aangepaste opties.
Soortelijke weerstand:P-type 4H/6H-P: ≤ 0,1 Ω·cm (Z-klasse), ≤ 0,3 Ω·cm (P-klasse).
Ruwheid:Ra ≤ 0,2 nm (CMP of MP).
Micropijpdichtheid (MPD):< 1 st/cm².
TTV: ≤ 10 μm.
Randuitsluiting:3 mm tot 6 mm.
Verdraaien: ≤ 30 μm voor kleinere formaten, ≤ 45 μm voor grotere formaten.
Andere beschikbare maten: 3 inch, 4 inch, 6 inch5×5 10×10
Tabel met gedeeltelijke gegevensparameters
Eigendom | 2 inch | 3 inch | 4 inch | 6 inch | 8 inch | |||
Type | 4H-N/HPSI/ | 4H-N/HPSI/ | 4H-N/HPSI//4H/6H-P/3C; | 4H-N/HPSI//4H/6H-P/3C; | 4H-N/HPSI/4H-SEMI | |||
Diameter | 50,8 ± 0,3 mm | 76,2±0,3 mm | 100±0,3 mm | 150±0,3 mm | 200 ± 0,3 mm | |||
Dikte | 330 ± 25 µm | 350 ±25 µm | 350 ±25 µm | 350 ±25 µm | 350 ±25 µm | |||
350±25um; | 500±25um | 500±25um | 500±25um | 500±25um | ||||
of op maat gemaakt | of op maat gemaakt | of op maat gemaakt | of op maat gemaakt | of op maat gemaakt | ||||
Ruwheid | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | |||
Verdraaien | ≤ 30um | ≤ 30um | ≤ 30um | ≤ 30um | ≤45um | |||
TTV | ≤ 10um | ≤ 10um | ≤ 10um | ≤ 10um | ≤ 10um | |||
Krabben/Graven | CMP/MP | |||||||
MPD | <1 st/cm-2 | <1 st/cm-2 | <1 st/cm-2 | <1 st/cm-2 | <1 st/cm-2 | |||
Vorm | Rond, plat 16 mm; lengte 22 mm; lengte 30/32,5 mm; lengte 47,5 mm; kerf; kerf; | |||||||
Afschuining | 45°, SEMI Spec; C-vorm | |||||||
Cijfer | Productiekwaliteit voor MOS&SBD; Onderzoekskwaliteit; Dummy-kwaliteit, Zaadwaferkwaliteit | |||||||
Opmerkingen | Diameter, dikte, oriëntatie en bovenstaande specificaties kunnen op uw verzoek worden aangepast |
Toepassingen
·Vermogenselektronica
N-type SiC-wafers zijn cruciaal in vermogenselektronica vanwege hun vermogen om hoge spanningen en stromen te verwerken. Ze worden veel gebruikt in vermogensomvormers, omvormers en motoraandrijvingen voor sectoren zoals hernieuwbare energie, elektrische voertuigen en industriële automatisering.
· Opto-elektronica
N-type SiC-materialen, met name voor opto-elektronische toepassingen, worden gebruikt in apparaten zoals lichtgevende diodes (leds) en laserdiodes. Hun hoge thermische geleidbaarheid en brede bandgap maken ze ideaal voor hoogwaardige opto-elektronische apparaten.
·Toepassingen bij hoge temperaturen
4H-N 6H-N SiC-wafers zijn uitermate geschikt voor omgevingen met hoge temperaturen, zoals sensoren en elektrische apparaten die worden gebruikt in de lucht- en ruimtevaart, automobielindustrie en industriële toepassingen waarbij warmteafvoer en stabiliteit bij hoge temperaturen van cruciaal belang zijn.
·RF-apparaten
4H-N 6H-N SiC-wafers worden gebruikt in radiofrequentie (RF)-apparaten die werken in hoogfrequente bereiken. Ze worden toegepast in communicatiesystemen, radartechnologie en satellietcommunicatie, waar hoge energie-efficiëntie en prestaties vereist zijn.
·Fotonische toepassingen
In de fotonica worden SiC-wafers gebruikt voor apparaten zoals fotodetectoren en modulatoren. De unieke eigenschappen van het materiaal maken het effectief in het genereren, moduleren en detecteren van licht in optische communicatiesystemen en beeldvormende apparatuur.
·Sensoren
SiC-wafers worden gebruikt in diverse sensortoepassingen, met name in veeleisende omgevingen waar andere materialen mogelijk falen. Denk hierbij aan temperatuur-, druk- en chemische sensoren, die essentieel zijn in sectoren zoals de automobielindustrie, de olie- en gasindustrie en milieumonitoring.
·Elektrische voertuigaandrijfsystemen
SiC-technologie speelt een belangrijke rol in elektrische voertuigen door de efficiëntie en prestaties van de aandrijfsystemen te verbeteren. Met SiC-vermogenshalfgeleiders kunnen elektrische voertuigen een langere batterijduur, snellere laadtijden en een hogere energie-efficiëntie bereiken.
·Geavanceerde sensoren en fotonische converters
In geavanceerde sensortechnologieën worden SiC-wafers gebruikt voor de ontwikkeling van zeer nauwkeurige sensoren voor toepassingen in robotica, medische apparatuur en milieumonitoring. In fotonische converters worden de eigenschappen van SiC benut om efficiënte omzetting van elektrische energie in optische signalen mogelijk te maken, wat essentieel is in de telecommunicatie- en snelle internetinfrastructuur.
Vragen en antwoorden
Q:Wat is 4H in 4H SiC?
A"4H" in 4H SiC verwijst naar de kristalstructuur van siliciumcarbide, met name een hexagonale vorm met vier lagen (H). De "H" geeft het type hexagonaal polytype aan en onderscheidt het van andere SiC-polytypes zoals 6H of 3C.
Q:Wat is de thermische geleidbaarheid van 4H-SiC?
ADe thermische geleidbaarheid van 4H-SiC (siliciumcarbide) bedraagt ongeveer 490-500 W/m·K bij kamertemperatuur. Deze hoge thermische geleidbaarheid maakt het ideaal voor toepassingen in vermogenselektronica en omgevingen met hoge temperaturen, waar efficiënte warmteafvoer cruciaal is.