SiC-wafel 4H-N 6H-N HPSI 4H-semi 6H-semi 4H-P 6H-P 3C type 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch
Eigenschappen
4H-N en 6H-N (N-type SiC-wafers)
Sollicitatie:Voornamelijk gebruikt in vermogenselektronica, opto-elektronica en toepassingen bij hoge temperaturen.
Diameterbereik:50,8 mm tot 200 mm.
Dikte:350 μm ± 25 μm, met optionele diktes van 500 μm ± 25 μm.
Soortelijke weerstand:N-type 4H/6H-P: ≤ 0,1 Ω·cm (Z-kwaliteit), ≤ 0,3 Ω·cm (P-kwaliteit); N-type 3C-N: ≤ 0,8 mΩ·cm (Z-kwaliteit), ≤ 1 mΩ·cm (P-kwaliteit).
Ruwheid:Ra ≤ 0,2 nm (CMP of MP).
Micropipe-dichtheid (MPD):< 1 stuk/cm².
TTV: ≤ 10 μm voor alle diameters.
Warp: ≤ 30 μm (≤ 45 μm voor 8-inch wafers).
Randuitsluiting:3 mm tot 6 mm, afhankelijk van het type wafer.
Verpakking:Cassette voor meerdere wafers of container voor één wafer.
Andere beschikbare maten: 3 inch, 4 inch, 6 inch, 8 inch
HPSI (High Purity Semi-Insulating SiC Wafers)
Sollicitatie:Geschikt voor apparaten die een hoge weerstand en stabiele prestaties vereisen, zoals RF-apparaten, fotonische toepassingen en sensoren.
Diameterbereik:50,8 mm tot 200 mm.
Dikte:Standaarddikte van 350 μm ± 25 μm, met opties voor dikkere wafers tot 500 μm.
Ruwheid:Ra ≤ 0,2 nm.
Micropipe-dichtheid (MPD): ≤ 1 stuk/cm².
Soortelijke weerstand:Hoge weerstand, doorgaans gebruikt in semi-isolerende toepassingen.
Warp: ≤ 30 μm (voor kleinere afmetingen), ≤ 45 μm voor grotere diameters.
TTV: ≤ 10 μm.
Andere beschikbare maten: 3 inch, 4 inch, 6 inch, 8 inch
4H-P、6H-P&3C SiC-wafel(P-type SiC-wafers)
Sollicitatie:Voornamelijk voor vermogens- en hoogfrequentapparaten.
Diameterbereik:50,8 mm tot 200 mm.
Dikte:350 μm ± 25 μm of aangepaste opties.
Soortelijke weerstand:P-type 4H/6H-P: ≤ 0,1 Ω·cm (Z-kwaliteit), ≤ 0,3 Ω·cm (P-kwaliteit).
Ruwheid:Ra ≤ 0,2 nm (CMP of MP).
Micropipe-dichtheid (MPD):< 1 stuk/cm².
TTV: ≤ 10 μm.
Randuitsluiting:3 mm tot 6 mm.
Warp: ≤ 30 μm voor kleinere afmetingen, ≤ 45 μm voor grotere afmetingen.
Andere beschikbare maten: 3 inch, 4 inch, 6 inch5×5 10×10
Tabel met gedeeltelijke gegevensparameters
| Eigendom | 2 inch | 3 inch | 4 inch | 6 inch | 8 inch | |||
| Type | 4H-N/HPSI/ | 4H-N/HPSI/ | 4H-N/HPSI//4H/6H-P/3C; | 4H-N/HPSI//4H/6H-P/3C; | 4H-N/HPSI/4H-SEMI | |||
| Diameter | 50,8 ± 0,3 mm | 76,2 ± 0,3 mm | 100 ± 0,3 mm | 150 ± 0,3 mm | 200 ± 0,3 mm | |||
| Dikte | 330 ± 25 µm | 350 ±25 µm | 350 ±25 µm | 350 ±25 µm | 350 ±25 µm | |||
| 350±25 µm; | 500±25 µm | 500±25 µm | 500±25 µm | 500±25 µm | ||||
| of op maat gemaakt | of op maat gemaakt | of op maat gemaakt | of op maat gemaakt | of op maat gemaakt | ||||
| Ruwheid | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | |||
| Warp | ≤ 30 µm | ≤ 30 µm | ≤ 30 µm | ≤ 30 µm | ≤45 µm | |||
| TTV | ≤ 10 µm | ≤ 10 µm | ≤ 10 µm | ≤ 10 µm | ≤ 10 µm | |||
| Krassen/Graven | CMP/MP | |||||||
| MPD | <1 stuk/cm-2 | <1 stuk/cm-2 | <1 stuk/cm-2 | <1 stuk/cm-2 | <1 stuk/cm-2 | |||
| Vorm | Rond, plat 16 mm; OF lengte 22 mm; OF lengte 30/32,5 mm; OF lengte 47,5 mm; INKERVING; INKERVING; | |||||||
| Afschuining | 45°, SEMI-specificatie; C-vorm | |||||||
| Cijfer | Productiekwaliteit voor MOS&SBD; Onderzoekskwaliteit; Dummykwaliteit; Zaadwafelkwaliteit | |||||||
| Opmerkingen | Diameter, dikte, oriëntatie en bovenstaande specificaties kunnen op uw verzoek worden aangepast. | |||||||
Toepassingen
·Vermogenselektronica
N-type SiC-wafers zijn cruciaal in vermogenselektronica vanwege hun vermogen om hoge spanningen en stromen te verwerken. Ze worden veelvuldig gebruikt in vermogensomvormers, inverters en motorsturingen voor industrieën zoals hernieuwbare energie, elektrische voertuigen en industriële automatisering.
• Opto-elektronica
N-type SiC-materialen, met name voor opto-elektronische toepassingen, worden gebruikt in apparaten zoals lichtemitterende diodes (LED's) en laserdiode's. Hun hoge thermische geleidbaarheid en brede bandgap maken ze ideaal voor hoogwaardige opto-elektronische apparaten.
·Toepassingen bij hoge temperaturen
4H-N 6H-N SiC-wafers zijn uitermate geschikt voor omgevingen met hoge temperaturen, zoals in sensoren en vermogenscomponenten die worden gebruikt in de lucht- en ruimtevaart, de automobielindustrie en industriële toepassingen waar warmteafvoer en stabiliteit bij hoge temperaturen cruciaal zijn.
·RF-apparaten
4H-N 6H-N SiC-wafers worden gebruikt in radiofrequentieapparaten (RF-apparaten) die werken in hoge frequentiebereiken. Ze worden toegepast in communicatiesystemen, radartechnologie en satellietcommunicatie, waar een hoog energie-rendement en goede prestaties vereist zijn.
·Fotonische toepassingen
In de fotonica worden SiC-wafers gebruikt voor apparaten zoals fotodetectoren en modulatoren. De unieke eigenschappen van het materiaal maken het effectief voor lichtgeneratie, -modulatie en -detectie in optische communicatiesystemen en beeldvormingsapparaten.
·Sensoren
SiC-wafers worden gebruikt in diverse sensortoepassingen, met name in ve veeleisende omgevingen waar andere materialen zouden falen. Denk hierbij aan temperatuur-, druk- en chemische sensoren, die essentieel zijn in sectoren zoals de automobielindustrie, de olie- en gasindustrie en milieumonitoring.
·Elektrische aandrijfsystemen voor voertuigen
SiC-technologie speelt een belangrijke rol in elektrische voertuigen door de efficiëntie en prestaties van de aandrijfsystemen te verbeteren. Met SiC-vermogenshalfgeleiders kunnen elektrische voertuigen een langere accuduur, snellere laadtijden en een hogere energie-efficiëntie bereiken.
·Geavanceerde sensoren en fotonische converters
In geavanceerde sensortechnologieën worden SiC-wafers gebruikt voor het maken van uiterst nauwkeurige sensoren voor toepassingen in robotica, medische apparatuur en milieumonitoring. In fotonische converters worden de eigenschappen van SiC benut om elektrische energie efficiënt om te zetten in optische signalen, wat essentieel is voor telecommunicatie en snelle internetinfrastructuur.
Vragen en antwoorden
QWat is 4H in 4H SiC?
A"4H" in 4H SiC verwijst naar de kristalstructuur van siliciumcarbide, specifiek een hexagonale vorm met vier lagen (H). De "H" geeft het type hexagonale polytype aan, waarmee het zich onderscheidt van andere SiC-polytypen zoals 6H of 3C.
QWat is de thermische geleidbaarheid van 4H-SiC?
ADe thermische geleidbaarheid van 4H-SiC (siliciumcarbide) bedraagt ongeveer 490-500 W/m·K bij kamertemperatuur. Deze hoge thermische geleidbaarheid maakt het ideaal voor toepassingen in vermogenselektronica en omgevingen met hoge temperaturen, waar efficiënte warmteafvoer cruciaal is.














