InGaAs epitaxiale wafersubstraat PD Array-fotodetectorarrays kunnen worden gebruikt voor LiDAR
De belangrijkste kenmerken van de InGaAs-laser-epitaxiale plaat zijn onder meer:
1. Roosteraanpassing: Er kan een goede roosteraanpassing worden bereikt tussen de epitaxiale InGaAs-laag en het InP- of GaAs-substraat, waardoor de defectdichtheid van de epitaxiale laag wordt verminderd en de prestaties van het apparaat worden verbeterd.
2. Verstelbare bandafstand: De bandafstand van InGaAs-materiaal kan worden bereikt door de verhouding van de componenten In en Ga aan te passen, waardoor InGaAs epitaxiale platen een breed scala aan toepassingsmogelijkheden hebben in opto-elektronische apparaten.
3. Hoge lichtgevoeligheid: InGaAs epitaxiale film heeft een hoge gevoeligheid voor licht, waardoor deze zich op het gebied van foto-elektrische detectie, optische communicatie en andere unieke voordelen bevindt.
4. Stabiliteit bij hoge temperaturen: De epitaxiale structuur van InGaAs/InP heeft een uitstekende stabiliteit bij hoge temperaturen en kan stabiele apparaatprestaties handhaven bij hoge temperaturen.
De belangrijkste toepassingen van InGaAs laser epitaxiale tabletten zijn onder meer:
1. Opto-elektronische apparaten: InGaAs epitaxiale tabletten kunnen worden gebruikt voor de productie van fotodiodes, fotodetectoren en andere opto-elektronische apparaten, die een breed scala aan toepassingen hebben op het gebied van optische communicatie, nachtzicht en andere gebieden.
2. Lasers: InGaAs epitaxiale platen kunnen ook worden gebruikt voor de vervaardiging van lasers, vooral lasers met lange golflengte, die een belangrijke rol spelen in optische vezelcommunicatie, industriële verwerking en andere gebieden.
3. Zonnecellen: InGaAs-materiaal heeft een breed aanpassingsbereik voor de bandafstand, dat kan voldoen aan de vereisten voor de bandafstand die worden vereist door thermische fotovoltaïsche cellen. InGaAs epitaxiale platen hebben dus ook zeker toepassingspotentieel op het gebied van zonnecellen.
4. Medische beeldvorming: In medische beeldvormingsapparatuur (zoals CT, MRI, etc.), voor detectie en beeldvorming.
5. Sensornetwerk: bij omgevingsmonitoring en gasdetectie kunnen meerdere parameters tegelijkertijd worden bewaakt.
6. Industriële automatisering: gebruikt in machine vision-systemen om de status en kwaliteit van objecten op de productielijn te bewaken.
In de toekomst zullen de materiaaleigenschappen van het epitaxiale substraat InGaAs blijven verbeteren, inclusief de verbetering van de foto-elektrische conversie-efficiëntie en de vermindering van het geluidsniveau. Hierdoor wordt het epitaxiale substraat InGaAs op grotere schaal gebruikt in opto-elektronische apparaten, en zijn de prestaties uitstekend. Tegelijkertijd zal ook het bereidingsproces voortdurend worden geoptimaliseerd om de kosten te verlagen en de efficiëntie te verbeteren, om zo aan de behoeften van de grotere markt te voldoen.
Over het algemeen neemt het epitaxiale substraat van InGaAs een belangrijke positie in op het gebied van halfgeleidermaterialen vanwege zijn unieke eigenschappen en brede toepassingsmogelijkheden.
XKH biedt maatwerk van InGaAs epitaxiale platen met verschillende structuren en diktes, die een breed scala aan toepassingen voor opto-elektronische apparaten, lasers en zonnecellen bestrijken. De producten van XKH worden vervaardigd met geavanceerde MOCVD-apparatuur om hoge prestaties en betrouwbaarheid te garanderen. Op logistiek gebied beschikt XKH over een breed scala aan internationale bronkanalen, die het aantal bestellingen flexibel kunnen verwerken en diensten met toegevoegde waarde kunnen leveren, zoals verfijning en segmentatie. Efficiënte leveringsprocessen zorgen voor een tijdige levering en voldoen aan de eisen van de klant op het gebied van kwaliteit en levertijden.