Industriële SiC verticale ovenbuis met hoge thermische geleidbaarheid en corrosiebestendigheid.

Korte beschrijving:

Onze siliciumcarbide (SiC) buis is ontworpen als de buitenste procesbuis in verticale ovens en zorgt voor een nauwkeurig gecontroleerde atmosfeer en een zeer uniform temperatuurveld. Hij is gebouwd om langdurige blootstelling aan temperaturen van circa 1200 ℃ en complexe procesgassen te weerstaan, wat extreem hoge eisen stelt aan zuiverheid, uitstekende thermische prestaties en een ijzersterke constructie.

Stuur ons een e-mail.

Functies

Gedetailleerd diagram

Siliciumcarbide verticale ovenbuis — Productoverzicht

Kwartsglasplaten, ook wel bekend als gesmolten silicaplaten of kwartsplaten, zijn zeer gespecialiseerde materialen gemaakt van siliciumdioxide (SiO₂) met een hoge zuiverheid. Deze transparante en duurzame platen worden gewaardeerd om hun uitzonderlijke optische helderheid, thermische weerstand en chemische stabiliteit. Dankzij hun superieure eigenschappen worden kwartsglasplaten veelvuldig gebruikt in diverse industrieën, waaronder de halfgeleiderindustrie, optica, fotonica, zonne-energie, metallurgie en geavanceerde laboratoriumtoepassingen.

Onze kwartsglasplaten worden vervaardigd met behulp van hoogwaardige grondstoffen zoals natuurlijk kristal of synthetisch siliciumdioxide, verwerkt door middel van precisie-smelt- en polijsttechnieken. Het resultaat is een ultraglad, zuiver en luchtbelvrij oppervlak dat voldoet aan de strengste eisen van moderne industriële processen.

Belangrijkste kenmerken

Een 3D-geprinte structuur uit één stuk
Elimineert naden en spanningsconcentraties om de mechanische sterkte en betrouwbaarheid te maximaliseren.

Ultralage onzuiverheden
Basismateriaal300 ppmCVD-gecoat oppervlak5 ppm—minimalisering van verontreiniging voor ultraschone verwerking.

Hoge thermische geleidbaarheid
Snelle en gelijkmatige warmteoverdracht maakt nauwkeurige temperatuurregeling en een hoge uniformiteit over de gehele wafer mogelijk.

Uitstekende thermische schokbestendigheid
Bestand tegen frequente temperatuurschommelingen zonder te barsten, waardoor de levensduur wordt verlengd en onderhoud wordt verminderd.

Uitstekende corrosiebestendigheid
Het CVD SiC-oppervlak biedt bescherming tegen agressieve chemicaliën en uiteenlopende atmosferen, wat zorgt voor stabiliteit op lange termijn.

Toepassingen

Halfgeleider:Oxidatie, diffusie, gloeien – elke stap die strikte temperatuuruniformiteit en reinheid vereist.
Fotovoltaïsche energie:Wafertexturering, diffusie en passivering met stabiele, reproduceerbare resultaten.
Geavanceerde materialen en warmtebehandeling:Gelijkmatige hoge temperaturen voor R&D- en productieapparatuur.

Veelgestelde vragen

Vraag 1: Belangrijkste toepassingen?
A:Processen in de halfgeleider-, fotovoltaïsche en geavanceerde materiaalsector, zoals diffusie, oxidatie, gloeien en passivering, waarbij de uniformiteit van de atmosfeer en de temperatuur de opbrengst bepalen.

Vraag 2: Maximale bedrijfstemperatuur?
A:Beoordeeld tot≤ 1300 ℃; een typische continue werking duurt ongeveer1200 ℃met uitstekende structurele stabiliteit.

Vraag 3: Hoe verhoudt het zich tot kwarts- of aluminiumoxidebuizen?
A:SiC biedt een hoger temperatuurbereik, een veel betere thermische geleidbaarheid, een superieure thermische schokbestendigheid, een langere levensduur en aanzienlijk lagere onzuiverheidsniveaus – ideaal voor de moderne eisen van halfgeleiders en fotovoltaïsche systemen.

Over ons

XKH is gespecialiseerd in de ontwikkeling, productie en verkoop van hoogwaardige optische glassoorten en nieuwe kristalmaterialen. Onze producten worden gebruikt in de optische elektronica, consumentenelektronica en de militaire sector. We bieden saffieren optische componenten, lenskappen voor mobiele telefoons, keramiek, LT, siliciumcarbide (SIC), kwarts en halfgeleiderkristalwafers. Dankzij onze expertise en geavanceerde apparatuur blinken we uit in de verwerking van niet-standaard producten en streven we ernaar een toonaangevende hightech onderneming in opto-elektronische materialen te worden.