Ti/Cu metaalgecoate siliciumwafel (titanium/koper)

Ti/Cu metaalgecoate siliciumwafer (titanium/koper) Uitgelichte afbeelding

Korte beschrijving:

OnsTi/Cu metaalgecoate siliciumwafersbeschikken over een hoogwaardig silicium (of optioneel glas/kwarts) substraat, gecoat met eentitanium hechtlaagen eenkoperen geleidende laaggebruikstandaard magnetron sputterenDe Ti-tussenlaag verbetert de hechting en processtabiliteit aanzienlijk, terwijl de Cu-bovenlaag een uniform oppervlak met lage weerstand biedt, ideaal voor elektrische interfacing en daaropvolgende microfabricage.

Stuur ons een e-mail.

Functies

Gedetailleerd diagram

Ti/Cu metaalgecoate siliciumwafel (titanium/koper)6

Overzicht

Deze wafers zijn ontworpen voor zowel onderzoeks- als pilotschaaltoepassingen en zijn verkrijgbaar in verschillende formaten en weerstandsbereiken, met flexibele aanpassingsmogelijkheden voor dikte, substraattype en coatingconfiguratie.

Belangrijkste kenmerken

Sterke hechting en betrouwbaarheidDe Ti-hechtlaag verbetert de hechting van de film aan Si/SiO₂ en verhoogt de robuustheid bij hantering.
Oppervlak met hoge geleidbaarheidDe kopercoating zorgt voor uitstekende elektrische prestaties van contacten en teststructuren.
Ruime mogelijkheden voor personalisatieSpecificaties voor wafergrootte, soortelijke weerstand, oriëntatie, substraatdikte en filmdikte zijn op aanvraag beschikbaar.
Verwerkingsklare substraten: compatibel met gangbare workflows in laboratoria en fabrieken (lithografie, galvaniseren, metrologie, enz.)
Beschikbare materiaalseriesNaast Ti/Cu bieden we ook wafers aan met een metaalcoating van Au, Pt, Al, Ni en Ag.

Typische structuur en afzetting

Stapel: Substraat + Ti-hechtlaag + Cu-coatinglaag
StandaardprocesMagnetron sputteren
Optionele processen: Thermische verdamping / Galvaniseren (voor dikkere koperlagen)

Mechanische eigenschappen van kwartsglas

Item	Opties
Wafergrootte	2", 4", 6", 8"; 10×10 mm; aangepaste snijformaten
Geleidbaarheidstype	P-type / N-type / Intrinsiek hoge soortelijke weerstand (Un)
Oriëntatie	<100>, <111>, enz.
Soortelijke weerstand	<0,0015 Ω·cm; 1–10 Ω·cm; >1000–10000 Ω·cm
Dikte (µm)	2": 200/280/400/500; 4": 450/500/525; 6": 625/650/675; 8": 650/700/725/775; aangepast
Substraatmaterialen	Silicium; optioneel kwarts, BF33-glas, enz.
Filmdikte	10 nm / 50 nm / 100 nm / 150 nm / 300 nm / 500 nm / 1 µm (aanpasbaar)
Opties voor metaalfolie	Ti/Cu; ook Au, Pt, Al, Ni, Ag beschikbaar

Ti/Cu metaalgecoate siliciumwafel (titanium/koper)4

Toepassingen

Ohms contact en geleidende substratenvoor apparaatontwikkeling en elektrische testen
Zaadlagen voor galvaniseren(RDL, MEMS-structuren, dikke koperlaag)
Sol-gel en substraten voor de groei van nanomaterialenvoor nano- en dunnefilmonderzoek
Microscopie en oppervlaktemetrologie(Monsterpreparatie en -meting voor SEM/AFM/SPM)
Bio/chemische oppervlakkenzoals celkweekplatforms, eiwit-/DNA-microarrays en reflectometrie-substraten

Veelgestelde vragen (Ti/Cu-metaalgecoate siliciumwafels)

Vraag 1: Waarom wordt er een Ti-laag onder de Cu-coating gebruikt?
A: Titanium werkt als eenhechtlaagDit verbetert de hechting van koper aan het substraat en versterkt de stabiliteit van de interface, waardoor loslaten of delaminatie tijdens hantering en verwerking wordt verminderd.

Vraag 2: Wat is de typische dikteconfiguratie van Ti/Cu?
A: Veelvoorkomende combinaties zijn onder andereTi: tientallen nanometer (bijv. 10–50 nm)EnCu: 50–300 nmvoor gesputterde films. Dikkere Cu-lagen (op micrometerniveau) worden vaak verkregen doorgalvaniseren op een gesputterde Cu-kiemlaagafhankelijk van uw toepassing.

Vraag 3: Kun je beide zijden van de wafer coaten?
A: Ja.Enkelzijdige of dubbelzijdige coatingis op aanvraag beschikbaar. Geef uw wensen aan bij uw bestelling.

Over ons

XKH is gespecialiseerd in de ontwikkeling, productie en verkoop van hoogwaardige optische glassoorten en nieuwe kristalmaterialen. Onze producten worden gebruikt in de optische elektronica, consumentenelektronica en de militaire sector. We bieden saffieren optische componenten, lenskappen voor mobiele telefoons, keramiek, LT, siliciumcarbide (SIC), kwarts en halfgeleiderkristalwafers. Dankzij onze expertise en geavanceerde apparatuur blinken we uit in de verwerking van niet-standaard producten en streven we ernaar een toonaangevende hightech onderneming in opto-elektronische materialen te worden.