Indiumantimonide (InSb) wafers N-type P-type Epi ready ongedoteerd Te-gedopeerd of Ge-gedopeerd 2 inch 3 inch 4 inch dikte Indiumantimonide (InSb) wafers

Korte beschrijving:

Indiumantimonide (InSb) wafers zijn een belangrijk onderdeel van hoogwaardige elektronische en opto-elektronische toepassingen. Deze wafers zijn verkrijgbaar in verschillende typen, waaronder N-type, P-type en ongedoteerd, en kunnen gedoteerd zijn met elementen zoals tellurium (Te) of germanium (Ge). InSb-wafers worden veel gebruikt voor infrarooddetectie, snelle transistoren, kwantumputten en andere gespecialiseerde toepassingen vanwege hun uitstekende elektronenmobiliteit en smalle bandgap. De wafers zijn verkrijgbaar in verschillende diameters, zoals 2 inch, 3 inch en 4 inch, met nauwkeurige diktecontrole en hoogwaardige gepolijste/geëtste oppervlakken.


Productdetails

Productlabels

Functies

Dopingopties:
1. Ongedopeerd:Deze wafers bevatten geen dopingmiddelen, waardoor ze ideaal zijn voor gespecialiseerde toepassingen zoals epitaxiale groei.
2.Te gedoteerd (N-type):Tellurium (Te)-doping wordt veel gebruikt om N-type wafers te maken, die ideaal zijn voor toepassingen zoals infrarooddetectoren en snelle elektronica.
3.Ge-gedopeerd (P-type):Germanium (Ge)-doping wordt gebruikt om P-type wafers te creëren, die een hoge gatmobiliteit bieden voor geavanceerde halfgeleidertoepassingen.

Maatopties:
1. Verkrijgbaar in diameters van 2 inch, 3 inch en 4 inch. Deze wafers voldoen aan verschillende technologische behoeften, van onderzoek en ontwikkeling tot grootschalige productie.
2. Nauwkeurige diametertoleranties zorgen voor consistentie in alle batches, met diameters van 50,8 ± 0,3 mm (voor 2-inch wafers) en 76,2 ± 0,3 mm (voor 3-inch wafers).

Diktecontrole:
1. De wafers zijn verkrijgbaar met een dikte van 500±5μm voor optimale prestaties in verschillende toepassingen.
2. Aanvullende metingen zoals TTV (totale diktevariatie), BOW en Warp worden zorgvuldig gecontroleerd om een ​​hoge uniformiteit en kwaliteit te garanderen.

Oppervlaktekwaliteit:
1. De wafers worden geleverd met een gepolijst/geëtst oppervlak voor verbeterde optische en elektrische prestaties.
2. Deze oppervlakken zijn ideaal voor epitaxiale groei en bieden een gladde basis voor verdere verwerking in hoogwaardige apparaten.

Epi-Ready:
1. De InSb-wafers zijn epi-ready, wat betekent dat ze voorbehandeld zijn voor epitaxiale depositieprocessen. Dit maakt ze ideaal voor toepassingen in de halfgeleiderproductie, waar epitaxiale lagen op de wafer moeten worden aangebracht.

Toepassingen

1. Infrarooddetectoren:InSb-wafers worden veel gebruikt voor infrarooddetectie (IR), met name in het middengolf-infrarood (MWIR). Deze wafers zijn essentieel voor toepassingen in nachtzicht, thermische beeldvorming en infraroodspectroscopie.

2. Hogesnelheidselektronica:Vanwege hun hoge elektronenmobiliteit worden InSb-wafers gebruikt in snelle elektronische apparaten zoals hoogfrequente transistoren, kwantumputapparaten en transistoren met hoge elektronenmobiliteit (HEMT's).

3.Quantum Well-apparaten:De smalle bandgap en uitstekende elektronenmobiliteit maken InSb-wafers geschikt voor gebruik in kwantumputten. Deze componenten zijn belangrijke componenten in lasers, detectoren en andere opto-elektronische systemen.

4.Spintronische apparaten:InSb wordt ook onderzocht in spintronische toepassingen, waarbij de elektronspin wordt gebruikt voor informatieverwerking. De lage spin-baankoppeling van het materiaal maakt het ideaal voor deze hoogwaardige apparaten.

5. Toepassingen van terahertz (THz) straling:InSb-gebaseerde apparaten worden gebruikt in THz-stralingstoepassingen, waaronder wetenschappelijk onderzoek, beeldvorming en materiaalkarakterisering. Ze maken geavanceerde technologieën mogelijk zoals THz-spectroscopie en THz-beeldvormingssystemen.

6. Thermo-elektrische apparaten:De unieke eigenschappen van InSb maken het een aantrekkelijk materiaal voor thermo-elektrische toepassingen. Het kan hierbij efficiënt warmte omzetten in elektriciteit, vooral in nichetoepassingen zoals ruimtetechnologie of energieopwekking in extreme omstandigheden.

Productparameters

Parameter

2 inch

3 inch

4 inch

Diameter 50,8±0,3 mm 76,2±0,3 mm -
Dikte 500±5μm 650±5μm -
Oppervlak Gepolijst/geëtst Gepolijst/geëtst Gepolijst/geëtst
Dopingtype Ongedoopt, Te-gedoopt (N), Ge-gedoopt (P) Ongedoopt, Te-gedoopt (N), Ge-gedoopt (P) Ongedoopt, Te-gedoopt (N), Ge-gedoopt (P)
Oriëntatie (100) (100) (100)
Pakket Enkel Enkel Enkel
Epi-Ready Ja Ja Ja

Elektrische parameters voor Te-gedopeerd (N-type):

  • Mobiliteit: 2000-5000 cm²/V·s
  • Weerstand: (1-1000) Ω·cm
  • EPD (Defectdichtheid): ≤2000 defecten/cm²

Elektrische parameters voor Ge-gedopeerd (P-type):

  • Mobiliteit: 4000-8000 cm²/V·s
  • Weerstand: (0,5-5) Ω·cm
  • EPD (Defectdichtheid): ≤2000 defecten/cm²

Conclusie

Indiumantimonide (InSb) wafers zijn een essentieel materiaal voor een breed scala aan hoogwaardige toepassingen in de elektronica, opto-elektronica en infraroodtechnologie. Dankzij hun uitstekende elektronenmobiliteit, lage spin-baankoppeling en diverse doteringsmogelijkheden (Te voor N-type, Ge voor P-type) zijn InSb-wafers ideaal voor gebruik in apparaten zoals infrarooddetectoren, snelle transistoren, kwantumput-apparaten en spintronische apparaten.

De wafers zijn verkrijgbaar in verschillende formaten (2 inch, 3 inch en 4 inch), met nauwkeurige diktecontrole en epi-ready oppervlakken, waardoor ze voldoen aan de strenge eisen van de moderne halfgeleiderproductie. Deze wafers zijn perfect voor toepassingen in sectoren zoals IR-detectie, snelle elektronica en THz-straling, en maken geavanceerde technologieën mogelijk in onderzoek, industrie en defensie.

Gedetailleerd diagram

InSb wafer 2inch 3inch N of P type01
InSb wafer 2inch 3inch N of P type02
InSb wafer 2inch 3inch N of P type03
InSb wafer 2inch 3inch N of P type04

  • Vorig:
  • Volgende:

  • Schrijf hier uw bericht en stuur het naar ons