Indiumantimonide (InSb) wafers N-type P-type Epi-ready ongedoteerd Te-gedoteerd of Ge-gedoteerd 2 inch 3 inch 4 inch dikte Indiumantimonide (InSb) wafers

Korte beschrijving:

Indiumantimonide (InSb) wafers zijn een essentieel onderdeel in hoogwaardige elektronische en opto-elektronische toepassingen. Deze wafers zijn verkrijgbaar in verschillende typen, waaronder N-type, P-type en ongedoteerd, en kunnen worden gedoteerd met elementen zoals tellurium (Te) of germanium (Ge). InSb wafers worden veel gebruikt in infrarooddetectie, snelle transistors, kwantumputapparaten en andere gespecialiseerde toepassingen vanwege hun uitstekende elektronmobiliteit en smalle bandgap. De wafers zijn verkrijgbaar in verschillende diameters, zoals 2 inch, 3 inch en 4 inch, met nauwkeurige diktecontrole en hoogwaardig gepolijste/geëtste oppervlakken.


Functies

Functies

Dopingopties:
1. Ongedopeerd:Deze wafers bevatten geen toevoegingsmiddelen, waardoor ze ideaal zijn voor specialistische toepassingen zoals epitaxiale groei.
2.Te-gedoteerd (N-type):Tellurium (Te)-dotering wordt vaak gebruikt om N-type wafers te maken, die ideaal zijn voor toepassingen zoals infrarooddetectoren en snelle elektronica.
3. Ge-gedoteerd (P-type):Germanium (Ge)-dotering wordt gebruikt om P-type wafers te creëren, die een hoge gatbewegelijkheid bieden voor geavanceerde halfgeleidertoepassingen.

Maatopties:
1. Verkrijgbaar in diameters van 2 inch, 3 inch en 4 inch. Deze wafers voldoen aan verschillende technologische behoeften, van onderzoek en ontwikkeling tot grootschalige productie.
2. Nauwkeurige diametertoleranties garanderen consistentie tussen batches, met diameters van 50,8 ± 0,3 mm (voor 2-inch wafers) en 76,2 ± 0,3 mm (voor 3-inch wafers).

Diktecontrole:
1. De wafers zijn verkrijgbaar met een dikte van 500 ± 5 μm voor optimale prestaties in diverse toepassingen.
2. Aanvullende metingen zoals TTV (totale diktevariatie), BOW en warp worden nauwlettend gecontroleerd om een ​​hoge uniformiteit en kwaliteit te garanderen.

Oppervlaktekwaliteit:
1. De wafers zijn voorzien van een gepolijst/geëtst oppervlak voor verbeterde optische en elektrische prestaties.
2. Deze oppervlakken zijn ideaal voor epitaxiale groei en bieden een gladde basis voor verdere verwerking in hoogwaardige apparaten.

Epi-Ready:
1. De InSb-wafers zijn epi-ready, wat betekent dat ze zijn voorbehandeld voor epitaxiale depositieprocessen. Dit maakt ze ideaal voor toepassingen in de halfgeleiderproductie waarbij epitaxiale lagen op de wafer moeten worden gegroeid.

Toepassingen

1. Infrarooddetectoren:InSb-wafers worden veel gebruikt voor infrarooddetectie (IR), met name in het middengolf-infrarood (MWIR) bereik. Deze wafers zijn essentieel voor nachtzicht, thermische beeldvorming en infraroodspectroscopie.

2. Hogesnelheidselektronica:Vanwege hun hoge elektronenmobiliteit worden InSb-wafers gebruikt in snelle elektronische apparaten zoals hoogfrequente transistors, kwantumputapparaten en HEMT's (High-Electron Mobility Transistors).

3. Kwantumputapparaten:De smalle bandgap en uitstekende elektronenmobiliteit maken InSb-wafers geschikt voor gebruik in kwantumputapparaten. Deze apparaten zijn essentiële componenten in lasers, detectoren en andere opto-elektronische systemen.

4. Spintronische apparaten:InSb wordt ook onderzocht voor spintronische toepassingen, waarbij elektronenspin wordt gebruikt voor informatieverwerking. De lage spin-orbitkoppeling van het materiaal maakt het ideaal voor deze hoogwaardige apparaten.

5. Toepassingen van terahertz (THz)-straling:Apparaten op basis van InSb worden gebruikt in THz-stralingstoepassingen, waaronder wetenschappelijk onderzoek, beeldvorming en materiaalkarakterisering. Ze maken geavanceerde technologieën mogelijk zoals THz-spectroscopie en THz-beeldvormingssystemen.

6. Thermoelektrische apparaten:De unieke eigenschappen van InSb maken het een aantrekkelijk materiaal voor thermo-elektrische toepassingen, waar het kan worden gebruikt om warmte efficiënt om te zetten in elektriciteit, met name in nichetoepassingen zoals ruimtevaarttechnologie of energieopwekking in extreme omstandigheden.

Productparameters

Parameter

2 inch

3 inch

4 inch

Diameter 50,8 ± 0,3 mm 76,2 ± 0,3 mm -
Dikte 500±5μm 650±5μm -
Oppervlak Gepolijst/geëtst Gepolijst/geëtst Gepolijst/geëtst
Dopingtype Ongedoteerd, Te-gedoteerd (N), Ge-gedoteerd (P) Ongedoteerd, Te-gedoteerd (N), Ge-gedoteerd (P) Ongedoteerd, Te-gedoteerd (N), Ge-gedoteerd (P)
Oriëntatie (100) (100) (100)
Pakket Enkel Enkel Enkel
Epi-Ready Ja Ja Ja

Elektrische parameters voor Te-gedoteerd (N-type):

  • Mobiliteit: 2000-5000 cm²/V·s
  • Soortelijke weerstand: (1-1000) Ω·cm
  • EPD (Defectdichtheid): ≤2000 defecten/cm²

Elektrische parameters voor Ge-gedoteerd (P-type):

  • Mobiliteit: 4000-8000 cm²/V·s
  • Soortelijke weerstand: (0,5-5) Ω·cm
  • EPD (Defectdichtheid): ≤2000 defecten/cm²

Conclusie

Indiumantimonide (InSb) wafers zijn een essentieel materiaal voor een breed scala aan hoogwaardige toepassingen op het gebied van elektronica, opto-elektronica en infraroodtechnologie. Dankzij hun uitstekende elektronmobiliteit, lage spin-orbitkoppeling en diverse doteringsmogelijkheden (Te voor N-type, Ge voor P-type) zijn InSb wafers ideaal voor gebruik in apparaten zoals infrarooddetectoren, snelle transistors, kwantumputapparaten en spintronische apparaten.

De wafers zijn verkrijgbaar in verschillende formaten (2 inch, 3 inch en 4 inch), met nauwkeurige diktecontrole en epitaxiale oppervlakken, waardoor ze voldoen aan de strenge eisen van moderne halfgeleiderproductie. Deze wafers zijn perfect voor toepassingen op gebieden zoals IR-detectie, snelle elektronica en THz-straling, en maken geavanceerde technologieën mogelijk in onderzoek, industrie en defensie.

Gedetailleerd diagram

InSb wafer 2 inch 3 inch N of P type01
InSb wafer 2 inch 3 inch N of P type02
InSb wafer 2 inch 3 inch N of P type03
InSb wafer 2 inch 3 inch N of P type04

  • Vorig:
  • Volgende:

  • Schrijf hier je bericht en stuur het naar ons.