BF33 Glaswafer Geavanceerd Borosilicaat Substraat 2″4″6″8″12″
Gedetailleerd diagram
Overzicht van BF33 glaswafer
De BF33-glaswafer, internationaal bekend onder de handelsnaam BOROFLOAT 33, is een hoogwaardig borosilicaatfloatglas, ontwikkeld door SCHOTT met behulp van een gespecialiseerde microfloatproductiemethode. Dit productieproces levert glasplaten op met een uitzonderlijk uniforme dikte, uitstekende oppervlaktevlakheid, minimale microruwheid en uitstekende optische transparantie.
Een belangrijk onderscheidend kenmerk van BF33 is de lage thermische uitzettingscoëfficiënt (CTE) van ongeveer 3,3 × 10-6 K-1, waardoor het ideaal is voor siliciumsubstraten. Deze eigenschap maakt een stressvrije integratie mogelijk in micro-elektronica, MEMS en opto-elektronische apparaten.
Materiaalsamenstelling van BF33-glaswafer
BF33 behoort tot de borosilicaatglasfamilie en bevat meer dan80% siliciumdioxide (SiO2), naast booroxide (B2O3), alkalioxiden en sporen aluminiumoxide. Deze formule biedt:
-
Lagere dichtheidvergeleken met sodakalkglas, waardoor het totale gewicht van de componenten afneemt.
-
Verlaagd alkaligehalte, waardoor ionenuitloging in gevoelige analytische of biomedische systemen tot een minimum wordt beperkt.
-
Verbeterde weerstandtegen chemische aantasting door zuren, logen en organische oplosmiddelen.
Productieproces van BF33-glaswafer
BF33-glaswafers worden geproduceerd via een reeks nauwkeurig gecontroleerde stappen. Eerst worden zeer zuivere grondstoffen – voornamelijk silica, booroxide en sporen alkali- en aluminiumoxiden – nauwkeurig gewogen en gemengd. De batch wordt gesmolten bij hoge temperaturen en gezuiverd om luchtbellen en onzuiverheden te verwijderen. Met behulp van het microfloatproces stroomt gesmolten glas over gesmolten tin om zeer vlakke, uniforme platen te vormen. Deze platen worden langzaam gegloeid om interne spanningen te verlichten, vervolgens gesneden in rechthoekige platen en vervolgens gestanst tot ronde wafers. De randen van de wafer worden afgeschuind voor duurzaamheid, gevolgd door nauwkeurig lappen en dubbelzijdig polijsten om ultragladde oppervlakken te verkrijgen. Na ultrasoon reinigen in een cleanroom ondergaat elke wafer een strenge inspectie op afmetingen, vlakheid, optische kwaliteit en oppervlaktedefecten. Tot slot worden de wafers verpakt in contaminatievrije containers om de kwaliteit tot gebruik te behouden.
Mechanische eigenschappen van BF33-glaswafer
| Product | BOROFLOAT 33 |
| Dikte | 2,23 g/cm3 |
| Elasticiteitsmodulus | 63 kN/mm2 |
| Knoophardheid HK 0,1/20 | 480 |
| Poisson's verhouding | 0,2 |
| Diëlektrische constante (@ 1 MHz en 25°C) | 4.6 |
| Verliestangens (@ 1 MHz & 25°C) | 37 x 10-4 |
| Diëlektrische sterkte (@ 50 Hz en 25 °C) | 16 kV/mm |
| Brekingsindex | 1.472 |
| Dispersie (nF - nC) | 71,9 x 10-4 |
Veelgestelde vragen over BF33-glaswafers
Wat is BF33-glas?
BF33, ook wel BOROFLOAT® 33 genoemd, is een hoogwaardig borosilicaat floatglas, geproduceerd door SCHOTT met behulp van een microfloatproces. Het biedt een lage thermische uitzetting (~3,3 × 10⁻⁶ K⁻¹), uitstekende thermische schokbestendigheid, hoge optische helderheid en uitstekende chemische bestendigheid.
Waarin verschilt BF33 van gewoon glas?
Vergeleken met sodakalkglas, BF33:
-
Heeft een veel lagere thermische uitzettingscoëfficiënt, waardoor er minder spanning ontstaat door temperatuurveranderingen.
-
Is chemisch beter bestand tegen zuren, logen en oplosmiddelen.
-
Biedt hogere UV- en IR-transmissie.
-
Biedt betere mechanische sterkte en krasbestendigheid.
Waarom wordt BF33 gebruikt in halfgeleider- en MEMS-toepassingen?
De thermische uitzetting komt dicht in de buurt van die van silicium, waardoor het ideaal is voor anodische verbindingen en microfabricage. De chemische bestendigheid maakt het bovendien bestand tegen etsen, reinigen en hoge temperaturen zonder degradatie.
Kan BF33 hoge temperaturen weerstaan?
-
Continu gebruik: tot ~450 °C
-
Kortdurende blootstelling (≤ 10 uur): tot ~500 °C
Door de lage CTE is het materiaal bovendien uitstekend bestand tegen snelle thermische veranderingen.
Over ons
XKH is gespecialiseerd in hightech ontwikkeling, productie en verkoop van speciaal optisch glas en nieuwe kristalmaterialen. Onze producten zijn geschikt voor optische elektronica, consumentenelektronica en het leger. We leveren optische componenten van saffier, lenskappen voor mobiele telefoons, keramiek, LT, siliciumcarbide (SIC), kwarts en halfgeleiderkristalwafers. Met onze expertise en geavanceerde apparatuur blinken we uit in de verwerking van niet-standaardproducten en streven we ernaar een toonaangevende hightechonderneming te worden op het gebied van opto-elektronische materialen.
