3inch SiC-substraat Productiediameter 76,2 mm 4H-N

Korte beschrijving:

De 3-inch siliciumcarbide 4H-N-wafer is een geavanceerd halfgeleidermateriaal dat speciaal is ontworpen voor hoogwaardige elektronische en opto-elektronische toepassingen. Deze wafer is bekend om zijn uitzonderlijke fysieke en elektrische eigenschappen en is een van de belangrijkste materialen op het gebied van vermogenselektronica.


Productdetails

Productlabels

De belangrijkste kenmerken van 3 inch siliciumcarbide mosfet-wafers zijn als volgt;

Siliciumcarbide (SiC) is een halfgeleidermateriaal met een brede bandgap, gekenmerkt door een hoge thermische geleidbaarheid, hoge elektronenmobiliteit en een hoge elektrische veldsterkte. Deze eigenschappen maken SiC-wafers uitstekend geschikt voor toepassingen met hoog vermogen, hoge frequenties en hoge temperaturen. Met name in het 4H-SiC-polytype biedt de kristalstructuur uitstekende elektronische prestaties, waardoor het het materiaal bij uitstek is voor vermogenselektronica.

De 3-inch siliciumcarbide 4H-N-wafer is een stikstofgedoteerde wafer met N-type geleiding. Deze doteringsmethode geeft de wafer een hogere elektronenconcentratie, waardoor de geleiding van het apparaat wordt verbeterd. De grootte van de wafer, 3 inch (diameter van 76,2 mm), is een veelgebruikte afmeting in de halfgeleiderindustrie en geschikt voor diverse productieprocessen.

De 3-inch siliciumcarbide 4H-N-wafer wordt geproduceerd met behulp van de Physical Vapor Transport (PVT)-methode. Dit proces omvat het transformeren van SiC-poeder tot monokristallen bij hoge temperaturen, waardoor de kristalkwaliteit en uniformiteit van de wafer worden gegarandeerd. Bovendien is de wafer doorgaans ongeveer 0,35 mm dik en wordt het oppervlak dubbelzijdig gepolijst om een ​​extreem hoge mate van vlakheid en gladheid te bereiken, wat cruciaal is voor de daaropvolgende halfgeleiderproductieprocessen.

Het toepassingsbereik van de 3-inch siliciumcarbide 4H-N-wafer is uitgebreid en omvat onder meer krachtige elektronische apparaten, hogetemperatuursensoren, RF-apparaten en opto-elektronische apparaten. Dankzij de uitstekende prestaties en betrouwbaarheid werken deze apparaten stabiel onder extreme omstandigheden en voldoen ze aan de vraag naar hoogwaardige halfgeleidermaterialen in de moderne elektronica-industrie.

Wij kunnen 4H-N 3-inch SiC-substraat en verschillende soorten substraatwafers leveren. Ook maatwerk is mogelijk, geheel afgestemd op uw wensen. Vraag gerust een offerte aan!

Gedetailleerd diagram

WechatIMG189
WechatIMG192

  • Vorig:
  • Volgende:

  • Schrijf hier uw bericht en stuur het naar ons